中国版曼哈顿计划破局？西方人在担心什么？

西方媒体近期将中国EUV光刻机研发称为"中国曼哈顿计划"，报道称深圳实验室已实现极紫外光源技术突破，但国内官方媒体对此保持沉默。该报道援引匿名消息人士说法，可信度存疑，可能出于向美国政府施压的目的。
中国在光刻机领域采用多种技术路径攻关，包括放弃体积限制的工厂式方案。EUV光刻机涉及10万余零部件和5000多家供应商，需突破技术专利限制建立全新技术体系。目前5纳米以下芯片工艺仍由台积电和三星垄断。
西方技术封锁反而加速了中国产业升级进程，使原本需要二十年的升级计划在七八年内基本实现。中国对西方技术需求逐渐减少，形成万亿贸易顺差新格局。全球贸易体系正在重构，中国在算力芯片领域的进步持续加快。
光刻机技术突破将改写全球科技秩序，但具体突破程度仍需验证。西方媒体的炒作既反映其焦虑心态，也体现出中国科技发展的实际影响力。